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〈シーズとニーズ・2014年度特別例会(1)〉

 

第19回 WORK SHOP 成膜
−様々なMaterialと加工・計測Technology−

 
 日本の部材工業を支えてきた――

 産業は時代により浮き沈みがあります。
 例えば半導体→ディスプレイ→携帯通信機器、そしてエネルギー機材。それらは成膜などの加工技術や関連する素材があったればこそ成り立つものです。

  このたびは、(独)産業技術総合研究所のご協力を得てこのWORKSHOPを開催します。
 また、日本学術振興会の「薄膜第131委員会」は1961年創立、以来薄膜研究の団体として大きな影響を持ち続けています。
概要プログラム
 第1部〔導入篇/これまでの膜研究と今後の課題〕
 
1.経済産業省から「政府の成長戦略におけるイノベーションの位置づけと〈シーズとニーズの会〉への期待」
 
川上 悟史 氏
(経産省 産業技術環境局 産業技術総合研究所室 課長補佐<総括>)
 
2.「日本学術振興会薄膜第131委員会の歴史を振り返って」
   時代時代で何が問題・課題だったのか
 
八瀬 清志 氏(産総研)
 
プリンテッドエレクトロニクスなどの表面工学全般に通じる。現在は、産業技術総合研究所、計測・計量標準分野副研究統括。
 
3.「薄膜研究の今後の方向と課題」
 
北川 雅俊 氏(パナソニック・大阪大学)
 
長年パナソニックにて薄膜づくりとその応用に関わる。現在は大阪大学パナソニック材料デバイス基盤協働研究所特任教授。
 

〈昼食・分科会の準備をはさんで〉

第2部〔分科会&WORK SHOP/商品展示や応用事例を伴って〕
A室〔主として会員社〕
B室〔一般参加〕
◇本間英夫(関東学院大学)一門から
 
@ 清川メッキ工業(株)
「ガラスへのめっき」
A 江東電気(株)
「UVを用いたプラスチック上へのめっき」
B ヱビナ電化工業
「オゾンファインバブルを用いたプラスチック上へのめっき
◇ 尾池工業(株)
「エアーギャップ対応ITOフィルム」
◇ エムテックスマート(株)
「MTSコーティングシステム」
◇ (株)山文電気
「膜厚測定」
◇ (株)シンクロン
「AFS膜処理プロセス/装置」
◇ 奥野製薬工業(株)
「@多孔質電解めっき用添加剤
 Aクロムフリー黒色無機顔料」
◇ (株)ネオス
「    」
□ 東邦化研(株)
「分析測定&イオンプレーティング加工」
(展示のみ)
◇ SILICONE VALLEY社(韓国企業)
「シリコン応用製品」
◇ NEOS社(韓国企業)
「諸機械装置」
等々
(産総研から)
 
◇「有機半導体の板状微結晶の作製技術」(仮題)
 
竹林 良浩 氏
陶 究 氏
依田 智 氏
(ナノシステム研究部門)
 
◇「金属錯体ナノ粒子を用いたエレクトロクロミック・ディスプレーの開発」(仮題)
 
川本 徹 氏
(ナノシステム研究部門)
 
◇「メッキ試料の官能検査(光計測による自動化)」
 
野中 一洋 氏
(生産計測技術研究センター)
 
◇「ナノメートルスケール薄膜の標準物質の開発と評価技術」
 
黒河 明 氏
(計測標準研究部門)
 
□「エアロゾルデポジション法(AD法)−焼かずに吹きつけて作るセラミック膜」

□「粘土で作るフィルム『クレースト』
−驚異的なガスバリア性と耐熱性」

□「パワーエレクトロニクスを革新するSiC」
(□それぞれ展示のみ)
等々
◇ シーズとニーズの会員社の紹介/小展示室にて
 第3部〔全体〕〈パネルディスカッション風に〉
コーディネート:宇山 晴夫(凸版印刷) 
 
 
〔新しいMaterialの開発とその後〕分野毎の報告と応用面を見据えて」
 
私たちは常に新しい素材を希求してやまない。技術開発におけるブレイクスルーは、素材に立ち返って遂げられることが多いからである。
 
〈とりあげるモノ・予定〉
 
◆ ペロブスカイト/太陽電池の革新のために
◆ セルロースナノファイバー/植物素材でありながら、強く軽い。
◆ 金属・ガラス
  /炭高い強度と耐久性、優れた転造加工性を持つ日本発の新素材
◆ 様々な代替材料の現状/触媒・レアメタル
◆ 次代を切り拓く電池材料
 
パネリスト/森本将史氏(全般・経済産業省)・柳沢智子(金属・田中貴金属)・福田伸(高分子・三井化学)
(なお、開発に関わった方々(例えば、セルロースナノファイバー・京都大学の矢野浩之氏)等にもできるだけ参加いただく予定)。
 
◇ ご挨拶「これからの産総研と企業への期待」(仮題)
 
金山 敏彦 氏
((独)産業技術総合研究所 副理事長)
《懇親会》
 

時:2014年9月9日(火) 10:00〜19:00
場:(独)産業技術総合研究所 臨海副都心センター別館 11階
会□場:(ゆりかもめ「テレコムセンター」駅下車)
会:東京都江東区青海2-4-7   (Google Maps)
〔(独)産業技術総合研究所と日本学術振興会薄膜131委員会のご協力とご支援のもとに〕
参加費:一般 1名 35,000円/会員 1名 20,000円(諸資料・出展料・昼食・懇親会費共)
細:その他詳細については事務局までお問い合わせください

 
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